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萬物智聯時代，RISC-V與AI的融合之路該如何走？
  • 更新日期： 2024-08-21
  • 瀏覽次數： 1492
在全球科技飛速發展的背景下，RISC-V與人工智能（AI）的結合成為了業內關注的焦點，8月19日，第四屆滴水湖中國RISC-V產業論壇在上海臨港滴水湖畔召開，北京大學講席教授、RISC-V國際基金會人工智能與機器學習專委會主席謝濤發表了《萬物智聯時代RISC-V+AI之路》演講，分析了RISC-V與AI技術的結合及其發……
晶圓測試與芯片測試有什么不同？
  • 更新日期： 2024-08-19
  • 瀏覽次數： 1108
晶圓測試（CP）屬于“晶圓級”工藝，數千顆甚至數萬顆裸芯片高度集成于一張晶圓上，對測試作業的潔凈等級、作業的精細程度、大數據的分析能力等要求較高，因此技術實力較強的測試廠商通過精益生產能夠實現更好的效益，拉開與其他對手的差距。
先進封裝技術CoWoS分享紀要
  • 更新日期： 2024-08-16
  • 瀏覽次數： 1541
臺積電的CoWoS（Chip On Wafer On Substrate）技術是一種先進的半導體封裝技術，旨在提升集成電路的性能、減小封裝尺寸，并有效降低功耗。CoWoS技術通過在一個硅中介層（Interposer）上集成多個芯片（或芯片組），形成一個高性能的封裝解決方案。該技術主要應用于需要高帶寬和低延遲的高性能計算……
Semicon半導體工藝：干法刻蝕與濕法刻蝕的區別和特點
  • 更新日期： 2024-08-16
  • 瀏覽次數： 1715
半導體制造工藝中的刻蝕是利用物理和(/或)化學方法有選擇性地從晶圓表面去除不必要材料的過程?？涛g工藝通常位于光刻工藝之后，利用刻蝕工藝對定義圖形的光阻層侵蝕少而對目標材料侵蝕大的特點，從而完成圖形轉移的工藝步驟?？涛g工藝主要分為干法和濕法兩種。
3納米制程芯片為什么需要EUV光刻機和多重曝光技術？
  • 更新日期： 2024-08-16
  • 瀏覽次數： 1450
晶圓制造工藝是一個非常復雜的過程，特別是在3納米制程中，挑戰會更加顯著。讓我們一步步來理解EUV（極紫外光刻）多重圖案（Multi-Patterning）技術在實現圖案分辨率時所面臨的挑戰。
晶圓制造中的“鳥喙效應”（bird beak）
  • 更新日期： 2024-08-16
  • 瀏覽次數： 1409
集成電路采用LOCOS（Local Oxidation of Silicon）工藝時會出現“鳥喙效應”（bird beak），這是一種在氧化硅生長過程中，由于氧化物側向擴展引起的現象。
第三代半導體碳化硅襯底分類、技術指標、生長工藝、產業鏈、下游應用等解析
  • 更新日期： 2024-08-15
  • 瀏覽次數： 1371
根據《中國戰略性新興產業：新材料(第三代半導體材料)》，與硅相比，碳化硅擁有更為優越的電氣特性:
晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕的原因
  • 更新日期： 2024-08-15
  • 瀏覽次數： 1515
在集成電路生產過程中，晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕現象是一個常見但復雜的問題。每個環節都有可能成為晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕的誘因，因此需要在生產中嚴格控制每個工藝參數，尤其是對邊緣區域的處理，以減少這種現象的發生。
華為海思半導體成功背后的男人和女人
  • 更新日期： 2024-08-14
  • 瀏覽次數： 1448
海思的名字從何而來？HiSilicon來自Huawei Silicon的縮寫。海既是Hi的諧音，又有深邃的意思，加上“思”與“silicon”發音近似，所以中文取名海思。
電子元器件的下一站是出海？
  • 更新日期： 2024-08-14
  • 瀏覽次數： 1365
歐美→日本、韓國和中國臺灣→中國大陸→東南亞等。最近5年，由于東南亞具備人口紅利、勞動力成本、巨大的需求等優勢，中低端的電子產業逐漸從中國大陸轉移到越南等東南亞國家。下面以越南為例。
晶圓代工巨頭臺積電創始人張忠謀
  • 更新日期： 2024-08-14
  • 瀏覽次數： 1841
張忠謀，臺灣晶圓制造之開創者也。祖籍浙江寧波，少時聰慧好學，天資卓絕。生于1931年，家道書香，父母敦教，讀書不輟。然抗戰時期，民生艱難，輾轉避亂，然其志不改，學業精進。
為什么硅片是圓形的，芯片是方形的？
  • 更新日期： 2024-08-13
  • 瀏覽次數： 1341
雖然硅片是圓形的，但是在其上制作芯片時，為了最大限度地利用空間，減少浪費，通常會在硅片上設計成多個方形或矩形的芯片布局。方形芯片在圓形硅片上排列得更加緊密。

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