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晶圓制造中的真空計(jì)概念、分類、應(yīng)用
  • 更新日期: 2024-09-26
  • 瀏覽次數(shù): 1608
真空計(jì)是用于探測(cè)真空系統(tǒng)中氣體壓力的儀器,它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏、科研實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域。在這些應(yīng)用中,不同種類的真空計(jì)用于測(cè)量不同的真空水平,以確保系統(tǒng)內(nèi)的氣體壓力保持在指定的范圍內(nèi)。理解真空計(jì)的工作原理和選擇適合的真空計(jì)對(duì)精確控制工藝至關(guān)重要,特別是在半導(dǎo)體制造中,許多關(guān)鍵工藝需要在特定的真空條件下進(jìn)行,如蝕刻、沉積……
聊聊芯片設(shè)計(jì)中EDA工具的作用、組成及主要廠商
  • 更新日期: 2024-09-24
  • 瀏覽次數(shù): 1500
電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA,Electronic Design Automation)是指一系列用于設(shè)計(jì)、分析和優(yōu)化電子系統(tǒng)和集成電路(IC)的軟件工具。這些工具幫助工程師們完成芯片設(shè)計(jì)中的復(fù)雜任務(wù),包括設(shè)計(jì)數(shù)字電路、模擬電路、驗(yàn)證電路功能、優(yōu)化性能等。通過使用EDA工具,工程師們可以在設(shè)計(jì)芯片時(shí)提高效率、減少錯(cuò)誤,并且更……
晶面和晶向的關(guān)系
  • 更新日期: 2024-09-21
  • 瀏覽次數(shù): 2653
晶面和晶向是晶體學(xué)中兩個(gè)核心的概念,它們與硅基集成電路工藝中的晶體結(jié)構(gòu)有密切的關(guān)系。 1. 晶向的定義與性質(zhì) 晶向代表晶體中一個(gè)特定方向,通常用晶向指數(shù)來表示。晶向通過連接晶體結(jié)構(gòu)中任意兩個(gè)晶格點(diǎn)來定義,并且有以下幾個(gè)特性:每個(gè)晶向上都包含無窮多個(gè)格點(diǎn);同一個(gè)晶向可以有多個(gè)平行的晶向組成一個(gè)晶向簇;晶向簇覆……
外延生長的基礎(chǔ)與應(yīng)用
  • 更新日期: 2024-09-21
  • 瀏覽次數(shù): 1874
在半導(dǎo)體和光電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展中,材料生長技術(shù)扮演了關(guān)鍵角色。無論是用于電腦芯片的晶體管,還是高亮度發(fā)光二極管(LED),這些現(xiàn)代電子設(shè)備都依賴于半導(dǎo)體材料的制備。而外延生長技術(shù)正是其中重要的一環(huán),它幫助我們?cè)诰w襯底上精確地構(gòu)建新的材料層,提升了器件的性能和可靠性。 無論是化學(xué)氣相沉積(CVD)還是分子束外延(MB……
電子元器件的下一站是出海?
  • 更新日期: 2024-09-19
  • 瀏覽次數(shù): 1050
謝謝9位大佬從廣州、深圳趕來東莞松山湖交流,同時(shí)也參加了阿里的電子元件出海培訓(xùn),分享一下紀(jì)要: 1、中低端電子產(chǎn)業(yè)向東南亞等轉(zhuǎn)移的趨勢(shì) 歐美→日本、韓國和中國臺(tái)灣→中國大陸→東南亞等。最近5年,由于東南亞具備人口紅利、勞動(dòng)力成本、巨大的需求等優(yōu)勢(shì),中低端的電子產(chǎn)業(yè)逐漸從中國大陸轉(zhuǎn)移到越南等東南亞國家。下面以……
深圳有哪些芯片設(shè)計(jì)公司?
  • 更新日期: 2024-09-19
  • 瀏覽次數(shù): 1119
截至2022年底,深圳合計(jì)有587家IC企業(yè),其中IC設(shè)計(jì)企業(yè)390家,晶圓制造企業(yè)7家,封測(cè)企業(yè)70家,設(shè)備企業(yè)79家,材料企業(yè)為41家,主要集中在南山和龍崗等。2022年深圳國產(chǎn)IC設(shè)計(jì)企業(yè)產(chǎn)值約724億元,僅次于上海1350億元、北京846億元。 圖:IC設(shè)計(jì)行業(yè)產(chǎn)值城市排名,來自清華魏少軍老師 ……
MOS管的核心參數(shù)解析(導(dǎo)通電阻與柵極電荷)
  • 更新日期: 2024-09-19
  • 瀏覽次數(shù): 1475
功率管的最主要的應(yīng)用是控制電流的通斷,即在一定的電壓條件下對(duì)流經(jīng)器件的電流進(jìn)行開關(guān)控制。首先,在可以承受的擊穿電壓的前提下(即器件的工作電壓平臺(tái)),器件導(dǎo)通電阻越低,其導(dǎo)通損耗就越低。其次,器件在開關(guān)狀態(tài)間切換時(shí),柵極電荷越小,器件的開關(guān)速度就越快,其動(dòng)態(tài)損耗就越低。 圖:MOS管結(jié)構(gòu) 對(duì)于功率MO……
半導(dǎo)體設(shè)備有哪些卡脖子的核心零部件?
  • 更新日期: 2024-09-19
  • 瀏覽次數(shù): 904
薄膜沉積是芯片制造的核心工藝環(huán)節(jié)。薄膜沉積技術(shù)是以各類適當(dāng)化學(xué)反應(yīng)源在外加能量(包括熱、光、等離子體等)的驅(qū)動(dòng)下激活,將由此形成的原子、離子、活性反應(yīng)基團(tuán)等在襯底表面進(jìn)行吸附,并在適當(dāng)?shù)奈恢冒l(fā)生化學(xué)反應(yīng)或聚結(jié),漸漸形成幾納米至幾微米不等厚度的金屬、介質(zhì)、或半導(dǎo)體材料薄膜。芯片是微型結(jié)構(gòu)體,其內(nèi)部結(jié)構(gòu)是3D立體式形態(tài),襯……
CMP:半導(dǎo)體制造工藝的平滑藝術(shù)
  • 更新日期: 2024-09-19
  • 瀏覽次數(shù): 1649
1、CMP工藝簡介 CMP(Chemical Mechanical Polishing)化學(xué)機(jī)械拋光,是一個(gè)將晶圓表面打磨得光滑平整的過程。想象您在打磨一塊寶石,除了手工的磨削,您還往上滴幾滴特制的藥劑,使其快變得光滑,這就是CMP工藝的縮影,它通過化學(xué)反應(yīng)和機(jī)械力的配合,將晶圓表磨削到所需的平整度。 ……
MOS管參數(shù)解析及國內(nèi)外大廠技術(shù)對(duì)比
  • 更新日期: 2024-09-19
  • 瀏覽次數(shù): 1338
MOSFET的單位面積導(dǎo)通電阻和優(yōu)值系數(shù)(FOM)參數(shù)代表了MOSFET的性能,是各大MOSFET廠商產(chǎn)品參數(shù)展示的關(guān)鍵指標(biāo),也是體現(xiàn)MOSFET芯片制造工藝核心技術(shù)能力的關(guān)鍵指標(biāo)。 通常來說,MOS管的單位面積導(dǎo)通電阻值和優(yōu)值系數(shù)值越低表示其性能越好。而超低壓MOSFET不關(guān)注優(yōu)值系數(shù),單位面積導(dǎo)通電阻值和漏極擊穿電壓之間存在取舍關(guān)系,因此對(duì)于超低壓MOSFET選取單位面積導(dǎo)通電阻值和漏極擊穿電壓作為比較指標(biāo)。 單位面積導(dǎo)通電阻(Ronsp),主要用于衡量功率器件導(dǎo)通狀態(tài)下,
第三代半導(dǎo)體碳化硅襯底分類、技術(shù)指標(biāo)、生長工藝、產(chǎn)業(yè)鏈、下游應(yīng)用等解析
  • 更新日期: 2024-09-19
  • 瀏覽次數(shù): 1469
1、第三代半導(dǎo)體特性 (1)碳化硅 根據(jù)《中國戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè):新材料(第三代半導(dǎo)體材料)》,與硅相比,碳化硅擁有更為優(yōu)越的電氣特性: ①耐高壓:擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度大,是硅的10倍,用碳化硅制備器件可以極大地提高耐壓容量、工作頻率和電流密度,并大大降低器件的導(dǎo)通損耗。 ②耐高溫:半導(dǎo)體器件在較高的溫度下……
瀾起科技:存儲(chǔ)接口芯片、發(fā)展歷程
  • 更新日期: 2024-09-19
  • 瀏覽次數(shù): 1548
瀾起科技:成立于2004年,2019年上市,擁有互連類芯片和津逮?服務(wù)器平臺(tái)兩大產(chǎn)品線。瀾起科技是國際領(lǐng)先的數(shù)據(jù)處理及互連芯片設(shè)計(jì)公司。 行業(yè)地位:瀾起科技的內(nèi)存接口芯片作為連接CPU和內(nèi)存的“高速公路”,是服務(wù)器內(nèi)存模組的必配芯片,已成功進(jìn)入國際主流內(nèi)存、服務(wù)器和云計(jì)算領(lǐng)域,產(chǎn)品性能和質(zhì)量受到市場(chǎng)及行業(yè)……

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